Nội dung bài viết
🌟 Máy Mạ PVD Mini – Giải Pháp Mạ Chân Không Hiệu Quả Cho Phòng Lab & Sản Xuất Nhỏ
🔧 Giới thiệu máy mạ PVD mini
Máy mạ PVD mini là thiết bị phủ mỏng kim loại bằng công nghệ bay hơi lắng đọng trong môi trường chân không, được thiết kế nhỏ gọn, phù hợp cho các phòng nghiên cứu, phòng lab R&D, trường học, hoặc các cơ sở sản xuất trang sức, linh kiện quy mô nhỏ.
Với thiết kế để bàn hoặc dạng tủ đứng mini, máy mạ PVD mini để bàn dễ dàng lắp đặt, vận hành và bảo trì. Đây là lựa chọn lý tưởng để thực hiện thử nghiệm mạ PVD, phủ lớp trang trí hoặc phủ chức năng trên nhiều vật liệu như inox, nhựa, kính, gốm, titan…
✅ Ưu điểm nổi bật của máy mạ PVD mini:
Kích thước nhỏ gọn – dễ lắp đặt trong không gian hạn chế.
Vận hành đơn giản – giao diện điều khiển thân thiện, phù hợp cả người mới.
Tiết kiệm chi phí – tiêu thụ điện và khí thấp, đầu tư ban đầu thấp hơn so với máy công nghiệp.
Linh hoạt – mạ được nhiều loại vật liệu, thay đổi màu sắc mạ dễ dàng.
Phù hợp cho thử nghiệm vật liệu – dùng trong các đề tài nghiên cứu, R&D.
🎯 Ứng dụng phổ biến:
Mạ mẫu thử trong phòng thí nghiệm, trường đại học
Máy mạ PVD mini cho R&D tại doanh nghiệp sản xuất linh kiện
Mạ PVD trang sức mini – phủ vàng, hồng, titan, đen…
Phủ lớp bảo vệ chống oxi hóa, chống xước trên kim loại, nhựa
Mạ phủ titan mini cho dụng cụ y tế, phụ kiện điện thoại
🔧 Thông số kỹ thuật – Máy phủ sputtering DC hai target
🎯 Bệ đặt mẫu:
Kích thước bệ mẫu: φ185mm
Độ chính xác điều khiển nhiệt độ: ±1ºC
Nhiệt độ gia nhiệt tối đa: 500ºC
Tốc độ quay bệ: 1–20 vòng/phút (có thể điều chỉnh)
🌀 Đầu sputtering magnetron:
Số lượng: 2 đầu target 2 inch (tùy chọn 1″ hoặc 2″)
Chế độ làm mát: Làm mát bằng nước
Chiller làm mát: Bộ làm mát nước tuần hoàn, lưu lượng 10L/phút
🛑 Buồng chân không:
Kích thước buồng: φ300mm × 300mm
Vật liệu buồng: Thép không gỉ
Cửa sổ quan sát: φ100mm
Phương thức mở buồng: Mở nắp trên
🌬️ Hệ thống cấp khí:
Lưu lượng kế khối lượng: 2 kênh (dải đo 100 SCCM mỗi kênh)
Tùy chỉnh: Có thể tùy chỉnh theo yêu cầu khách hàng
💨 Hệ thống chân không:
Model hệ thống hút: CY-GZK103-A
Bơm phân tử: CY-600
Bơm sơ cấp (backing): Bơm cánh gạt
Giao diện hút khí: KF40 (bơm chính), KF16 (xả)
Đo chân không: Đồng hồ đo chân không tổ hợp
Tốc độ hút:
Bơm phân tử: 600 L/s
Bơm cánh gạt: 1.1 L/s
Hiệu suất hút khí tổng thể:
Đạt chân không 1.0E-3 Pa trong vòng 20 phút
Độ chân không tối đa: 1.0E-5 Pa
⚡ Nguồn điện & công suất:
Cấu hình nguồn: 2 nguồn RF
Công suất đầu ra tối đa: RF 300W mỗi nguồn
Điện áp nguồn cấp: AC 220V, 50/60Hz
Tổng công suất tiêu thụ: 2.5 kW
📦 Kích thước & khối lượng:
Kích thước tổng thể: 600mm × 650mm × 1280mm
Khối lượng: Khoảng 300kg
📝 Tùy chọn & mở rộng:
Có thể chọn loại máy có 1/2/3/4/8 nguồn bay hơi, hỗ trợ cả vật liệu kim loại và hữu cơ.
Buồng phủ có thể chọn bằng thủy tinh thạch anh (cho môi trường chân không thấp) hoặc SS304 (cho chân không cao).
Cảm biến đo độ dày màng là tùy chọn lắp thêm.
Có thể tích hợp 3 trong 1: Bay hơi nhiệt, E-beam, Magnetron Sputtering trong cùng một máy.
Hỗ trợ nhiều loại vật liệu nguồn bay hơi khác nhau.
Nhận thiết kế máy phủ bay hơi nhiệt theo quy trình riêng của khách hàng.
